国产EUV反射镜：进展几何

近期长光所的期刊《光学精密工程》上登了一篇很有意思的文章，关于EUV反射镜多层薄膜沉积与休整。对于犹抱琵琶半遮面的国产EUV计划而言，真正高含金量的本土信息少之又少，大多都是来自于海外媒体的出口转内销。从这本中国EUV摇篮长光所所主办的学术期刊上，我们也来管中窥豹探知一二吧。

原文《基于双离子束溅射沉积工艺优化的极紫外多层反射薄膜界面质量提升》，探讨了钼硅复合多层结构的界面的均一性提升的方法以及性能提升。

Source：基于双离子束溅射沉积工艺优化的极紫外多层反射薄膜界面质量提升，光学精密工程，2026年第7期

如上图所示，钼与硅的材料界面上，存在有两种原子的互相扩散，当使用离子束溅射沉积来生长薄膜时，易导致界面扩散，进一步使界面层的粗糙度增加，最终削弱EUV光的反射效率。这也是蔡司常年来在商业宣传中其极致的镜面平整度的原因所在：真正的核心不在镜面的光洁与平整，而是40多对钼硅复合层都要达到极高的平整度。

而通过斜角沉积可以促使钼硅层向横向生长，从而减小其扩散层厚度至0.6nm；通过掠角的低能离子束刻蚀，也能进一步降低表面粗糙度至0.2nm。这种方法减少了阻挡层的加入，简化了工艺，也提升了EUV光的反射率。

以前，同济大学王占山教授也发表过一篇关于EUV反射镜在高辐照环境下的失效机制与抗损伤性能的方法，其中就详细解析了碳插层在EUV引发的二次电子作用下产生非均匀石墨化导致随机膨胀，削减EUV反射率的情况。

两篇论文一对比，一前一后遥相呼应，把EUV反射镜的失效机制与性能提升合并讲明白了。

EUV反射镜也并不是为EUV光刻机而生的光学零部件，其在同步辐射光源的建设与研究中也有许多应用场景，这是典型的学术研究与产业发展协同的技术。随着全国各地同步辐射光源的建设和研究持续开展，小尺寸EUV反射镜注定无法支持高分辨率光学成像的研究，大尺寸的EUV反射镜唯有依靠独立自主，而这也是EUV光刻机所必须的。

这篇文章中有诸多亮点：其一是使用博顿光电所提供的离子束加工设备进行薄膜沉积与刻蚀抛光，EUV镀膜和抛光设备从实验室走向量产已经是正在进行时；其二是湖南韶光的加入，韶光作为国产掩模基板和石英基板的关键供应商，在先进光领域已经不再是旁观者；其三是本文作者之一的段辉高教授，担任了本文的研究与实验方法指导，段教授在电子束光刻和电子束光刻胶领域有许多研究成果，特别是两者引发的二次电子对光刻胶感光影响上的行为表达极为相似。综上所述，这篇文章的信息量相当之大。

如今，EUV光刻机已经进入NA 0.55的高数值孔径时代，新型low NA EUV的已经达到了每小时360片以上的产能，与EXE3400的290片/小时相比有了极大的提升，其镜片所需要承受何等高能的EUV激光照射可想而知。同时，为了减少随机缺陷，高剂量的EUV激光照射必不可少，因此EUV镜面的高反射效率和寿命成为了关键的成本考量。

《基于双离子束溅射沉积工艺优化的极紫外多层反射薄膜界面质量提升》一文最大的技术价值不仅在于说明白了这个问题，更在于让国产供应链走向台前。

这块全球最平整和闪亮的镜子应该离我们不再遥远了！