Sentech原子层沉积ALD设备SENTECH原子层沉积设备实现了热ALD和等离子体增强ALD操作。ALD设备可以配置为用于氧化物、氮化物和金属沉积。三维结构具有出色的均匀性和保行性。利用ALD、PECVD和ICPECVD，SENTECH提供等离子体沉积技术，用于从纳米尺度沉积到数微米的薄膜沉积。 Sentech原子层沉积ALD设备 原子层沉积（ALD）是在3D结构上逐层沉积超薄薄膜的工艺方法。薄膜厚度和特性的精确控制通过在工艺循环过程中在真空腔室分步加入前置物实现。等离子增强原子层沉积（PEALD）是用等离子化的气态原子替代水作为氧化物来增强ALD性能的先进方法。...
Picosun原子层沉积PICOSUN Morpher F ALDPICOSUN® Morpher F ALD产品平台旨在颠覆Beyond and Beyond Moore技术的高达200毫米晶圆行业。它能够以领先的工艺质量、可靠性和操作敏捷性快速、全自动、高吞吐量生产 MEMS、传感器、LED、激光器、电力电子、光学器件和 5G 组件。 Picosun公司是一家全球公司，一直致力于为行业提供最先进的ALD（原子层沉积）薄膜涂层解决方案。借助Turn-key类型的生产流程和无与伦比的开创性专业知识（可追溯到ALD技术的被发明），Picosun公司的ALD解决方案不断为市场和客户带来未来的技术方案。PICOSUN ®ALD设备已在世界各地的许多领先行业中投入日常生产使用。...
Picosun原子层沉积PICOSUN Sprinter ALDPICOSUN® Sprinter ALD 系统旨在中断半导体（例如新兴存储器、晶体管、电容器）、显示器和物联网组件行业中 300 毫米生产线的批量 ALD 生产。在 Sprinter 中，势垒、高 k 氧化物和其他薄膜以完美的 ALD 大量沉积。 全自动、经 SEMI S2/S8 认证的 PICOSUN® Sprinter...
TSST大面积脉冲激光沉积/激光分子束外延系统大面积PLD，大面积LMBE，荷兰TSST公司开发的大面积脉冲激光沉积系统，可实现晶圆级薄膜外延生长。 荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统，在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。荷兰Twente Solid State Technology BV（TSST）公司专注于为用户提供定制化的脉冲激光沉积系统（PLD），以及相关薄膜制备解决方案，公司具有20多年研究与生产脉冲激光沉积系统的经验。 TSST与世界最大的纳米与微系统技术研究中心之一荷兰Twente大学MESA+ Institute保持着密切合作，开发出各种脉冲激光沉积技术中需要使用的核心技术。...
TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统荷兰TSST公司提供专业的脉冲激光沉积系统和激光分子束外延系统。 荷兰TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统，在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。TSST脉冲激光沉积/激光分子束外延系统 产品描述：荷兰TSST公司提供专业的脉冲激光沉积系统和激光分子束外延系统。 荷兰Twente Solid State Technology BV（TSST）公司专注于为用户提供定制化的脉冲激光沉积系统（PLD），以及相关薄膜制备解决方案，公司具有20多年研究与生产脉冲激光沉积系统的经验。...
WEP电化学ECV掺杂浓度检测CVP21德国WEP公司的CVP21电化学C-V剖面浓度测试仪可高效、准确的测量半导体材料（结构，层）中的掺杂浓度分布。选用合适的电解液与材料接触、腐蚀，从而得到材料的掺杂浓度分布。电容值电压扫描和腐蚀过程由软件全自动控制。电化学ECV剖面浓度测试仪主要用于半导体材料的研究及开发，其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。电化学ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或发展半导体光-电化学湿法蚀刻(PEC Etching)很好的选择。CVP21电化学C-V剖面浓度测量仪适用于评估和控制在半导体生产中的外延过程并且以被使用在多种不同的材料上，例如：硅、锗、III-V族化合物半导体(如GaN)。...
Sinton少子寿命测试仪WCT-120测试硅片硅片测试仪器提供了对载流子复合寿命进行校准分析的现有最佳技术。完全遵从 SEMI 标准 PV-13。 WCT-120 是放置在桌面上的硅片寿命测量系统，适用于器件研究和工业过程控制，价格实惠。WCT-120MX适用于测试230 mm的大硅片。 WCT-120/WCT-120MX: 硅片寿命的标准离线测试工具 硅片测试仪器提供了对载流子复合寿命进行校准分析的现有最佳技术。完全遵从 SEMI 标准 PV-13。 WCT-120 是放置在桌面上的硅片寿命测量系统，适用于器件研究和工业过程控制，价格实惠。WCT-120MX适用于测试230 mm的大硅片。 产品概述 WCT-120和WCT-120MX...
Sinton少子寿命测试仪BLS-I/BCT-400 BLS-I和BCT-400测量系统可以直接测量单晶或多晶硅锭或硅砖的寿命，而无需进行表面钝化。由于寿命测试是表征晶体生长和杂质缺陷最灵敏的技术之一，使用该系列产品，您可以在晶体长成后立刻对晶硅质量进行评估。 Sinton BCT-400是基于涡流传感器和红外光致光电导方法直接测量单晶或者多晶硅棒体少子寿命的设备，具有瞬态和准稳态两种测量模式。该设备可探测3mm 深度范围少子寿命，并能输出不同载流子注入水平下的少子寿命值，可实现低电阻率硅单晶少子寿命测量，并能通过软件端光强偏置实现单晶缺陷密度计算。 Sinton少子寿命测试仪BLS-I/BCT-400: 优越的硅锭测试仪器...
Plassys磁控溅射镀膜系统磁控溅射镀膜仪是一种普适的薄膜沉积系统，用于各种单层膜、多层膜以及掺杂薄膜的制备。磁控溅射沉积薄膜的特点是成膜速率高、基片温度低、薄膜与基底的粘附性好，而且可实现大面积镀膜。磁控溅射仪可以生长Ag、Pt、Au等金属薄膜及合金薄膜、半导体薄膜、介质薄膜等，用于新型薄膜材料和微纳器件的制备。 Plassys磁控溅射镀膜系统 溅射系统 高压/特高压 所有类型的机器 圆柱形或平行六面体腔室，带前门或顶盖 标准腔室：直径 350、400、450、600、900 mm 单晶圆或暗盒负载锁定 矩形或圆形直流和射频阴极 溅射上/下配置 用于共聚焦系统的簇，真正的共溅射 反应和非反应溅射 静态或动态沉积，行星和双行星旋转，振荡 沉积前和沉积期间基板上的射频偏置...
Plassys微波等离子化学气相沉积系统MPCVDSSDR 150 是一种微波等离子体辅助 CVD （MW-PACVD） 反应器，专门用于金刚石薄膜和宝石合成。作为彻底研发工作的丰硕成果，该反应器使用高功率密度等离子体以高生长速率提供高纯度金刚石薄膜。由于其优化的微波和等离子体设计，SSDR 150反应器是一种可靠而坚固的设备，完美地适应了研发实验室和工业的需求。SSDR 150 易于清洁和更换的钟形罐配置使它特别适用于掺杂金刚石薄膜。 MW-PACVD 的钻石增长 SSDR 150 是一种微波等离子体辅助 CVD （MW-PACVD）...
Plassys电子束蒸镀系统电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚，使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究，如基于金刚石NV色心，离子阱，超导量子结，量子点电子自旋的研究 电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器，用于蒸镀各种高纯金属薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, Al,...
Ionplus放射性碳定年小型加速器质谱系统MICADAS 200kVIonplus旗舰AMS系统的最高性能：迷你碳测年系统MICADAS是适用于您的¹⁴C应用的真正精密仪器。凭借其永磁体和新设计，MICADAS也是世界上最节能的AMS，基础设施要求最低。Ionplus放射性碳定年小型加速器质谱系统MICADAS 200kV Ionplus旗舰AMS系统的最高性能：迷你碳测年系统MICADAS是适用于您的¹⁴C应用的真正精密仪器。凭借其永磁体和新设计，MICADAS也是世界上最节能的AMS，基础设施要求最低。...
Ionplus多核素低能量小型加速器质谱系统 (10Be,14C, 26Al, 41Ca,129I, 236U) MILEA 300kV在合作中，Ionplus和苏黎世联邦理工学院开发了下一代低能量多同位素AMS系统：MILEA。新仪器涵盖¹⁰Be，¹⁴C，²⁶Al，⁴¹Ca，¹²⁹I，U，Pu和其他锕系元素，将MICADAS的成熟加速器和离子源技术与ETH“TANDY”仪器的高能光谱仪布局的成熟概念相结合。Ionplus多核素低能量小型加速器质谱系统 (10Be,14C, 26Al, 41Ca,129I, 236U) MILEA 300kV...
Ionplus多核素(10Be,14C,26Al) 低能量小型加速器质谱系统MILEA light 300kVMILEA 灯设计用于 ¹⁰Be、¹⁴C 和 ²⁶Al的最高性能测量。它是 MILEA 的更简单、更小、更实惠的替代品，也是您在地质学和所有放射性碳研究中要求苛刻应用的完美仪器。紧凑型轻型版本主要基于MILEA原理，在低能量侧没有ESA，并通过90°磁性，110°静电和另一个110°磁性偏转器优化了高能量设置。 Ionplus多核素(10Be,14C,26Al) 低能量小型加速器质谱系统MILEA light 300kV Ionplus AG开发MILEA Light低能量多同位素加速器质谱仪。MILEA light...
Ionplus低能量(14C)碳十四小型加速器质谱系统LEA 50kV基于成熟的MICADAS的概念，Ionplus围绕专利的氦气汽提技术开发了一种新的AMS系统，加速器电压仅为50 kV – LEA。 LEA较低的加速器电压在不影响其性能的情况下显著减少了占地面积。LEA的尺寸仅为2.6米x 1.8米，高度为1.5米，不到MICADAS的一半。由此，这是世界上最紧凑的新型¹⁴C-AMS系统。Ionplus低能量(14C)碳十四小型加速器质谱系统LEA 50kV 基于成熟的MICADAS的概念，Ionplus围绕专利的氦气汽提技术开发了一种新的AMS系统，加速器电压仅为50 kV – LEA。 LEA较低的加速器电压在不影响其性能的情况下显著减少了占地面积。LEA的尺寸仅为2.6米x...
AMPI刺激器Master-9以色列AMPI的Master-9刺激器有9个通道，并且9个通道均可编程，可以有重复，单一和训练输出，能够根据需要组合成不同的脉冲模式，并且该刺激发生器具有超高的精度，配备专业的操作软件，能够实时显示Master-9神经生理刺激器的工作状况9个独立通道、多输出模式、可编程的Master-9刺激器 5年保修！ Master 9 拥有Master 8 的所有功能，并且在Master 8的基础上增加了更强大的功能，它拥有9个独立的可编程通道，具有重复，单一和训练输出，并且能够进行单项和双向脉冲和斜坡输出。Master 9所有通道都可以独立运行，也可以同步运行以产生复杂的范式（例如 Theta-Burst）。Master 9使用所有通道提供一系列脉冲序列。Master...
AMPI刺激器Master-8以色列AMPI的Master-8刺激器有8个通道，并且8个通道可以独立操作，可以根据需要组合成不同的脉冲模式，并且该刺激发生器具有超高的精度，配备专业的操作软件，不仅能够实时显示Master-8神经生理刺激器的工作状况，还能够在不中断实验的同时对输出的参数进行调节。 8个独立通道、高精度、可编程的Master-8和Master-8-cp刺激器 5年保修！ Master-8刺激器有8个通道，均可独立工作，可以同时在不同的脉冲模式下工作，还可以根据需要将其组合。Master-8具有多样的操作方式，可以直接通过前面板的按键进行设定，产生不同的脉冲刺激，也可以通过其配备的专业软件Master-8...
Precision Laser Scanning多边扫描仪美国Precision Laser Scanning公司专业于高速多边形扫描仪的研发。Precision Laser Scanning的技术人员拥有超过50年的多边形扫描器设计经验。preCision laser sCanning生产的高速激光扫描仪的特点有利于小型无人机的三维映射，还适用于机器人或者工厂自动化的避碰和导航的多功能工厂自动化扫描仪。独特的MIM大孔径激光扫描仪设计具有非常低的轮廓。一个四边MIM扫描仪可以在自动驾驶汽车前方进行120度的扫描，反射镜的孔径大到足以看清前方数百米的车辆。除了MIM大孔径激光扫描器，Precision Laser Scanning公司还生产了Wood...
Precision Laser Scanning多边形扫描头美国PLS紧凑、低成本的多边形扫描头设计用于对移动目标进行激光清洁和表面处理。A型多边形扫描头足够轻，适合手持使用，非常紧凑，可以适应狭小的空间。精密激光扫描头Model...
Spectrum D/A，任意波形发生器任意波形发生器 (AWG) 从其内部存储器或通过 PC 系统的 FIFO 模式重放加载的波形。 数字信号被转换成具有定义偏移和振幅的模拟输出信号。 可以重放任何波形，无论是先前采集的波形还是计算或模拟的波形。 使用内部同步，信号发生器卡可以运行时钟并与多个 A/D 卡同步触发。D/A 产品和任意波形发生器任意波形发生器 （AWG） 从其内部存储器或通过 PC 系统的 FIFO 模式重放加载的波形。数字信号被转换为具有定义偏移和幅度的模拟输出信号。任何波形都可以重放，无论是先前采集的波形还是计算或模拟的波形。使用内部同步，频谱信号发生器卡可以运行时钟并与频谱的多个A / D卡同步触发。 65xx系列 【产品系列】D/A family【采样率】40...
